マイクロ波による高効率加熱が可能なマイクロ波加熱装置です。マイクロ波照射状態を逐次監視し、安定した定在波（加熱エリア）形成を行なうことで、極性溶媒のみならず非極性溶媒の高速加熱を実現しました。反応管の中心軸に強力で均一な加熱エリアが形成されるのでフロー反応系に最適です。

■シングルモード円筒型共振器（TM010モード）による定在波を利用した高効率加熱を行ないます。
■可変周波数半導体式発振器と共振周波数フィードバック制御機構を搭載（特許技術）し、反応管設置部分に均一で強力なマイクロ波照射状態を保つことができます。
■温度調節範囲は室温付近∼500℃、出力制御範囲は0∼100Wか200Wの機種を選択して調整できます。
■反応ユニットには、外径10㎜以下×長さ100㎜程度の反応管を設置可能です。送液ポンプと組合せてフローシステムが構築できます。
■装置制御はノートパソコンから行なえます。運転状況や運転データの自動記録が可能です。
■反応ユニットと制御本体を分離したセパレート型の製作も可能です。ドラフト内に設置する場合などに便利です。
■工場オプションで簡易誘電率測定機能を追加できます。

特許技術【共振反応器】と【発振周波数制御】で定在波の形成状態を可視化

マイクロ波は目に見えないため、従来の装置では適切に加熱されているかがわからないという問題がありました。本機の特許技術は、共振周波数が得られればマイクロ波で加熱されていることを示します。これまで認識できなかったマイクロ波の可視化を実現

中心軸にサンプルを配した円筒空胴共振器（キャビティ）内にマイクロ波を照射するとサンプルの特性に応じてある周波数で共振し、中心部に電界が集中、中心軸上に配置したサンプルを加熱することができます。

※サンプルの誘電率・反応管の材質・内径によっては、制御周波数範囲 （2.4∼2.5GHz）に入らない場合があります。その場合は加熱できませんが、キャビティ径や反応管径を変更することで対応できる場合があります。

半導体式発振器（HPA）は、任意の単一周波数のマイクロ波を精度よく発振することができます。共振周波数を常に監視しフィードバック制御を行なうことでサンプルの状態が変化しても常に最適なマイクロ波照射状態を維持することができます。

データ

■昇温曲線（水・IPA・トルエン）：カラム表面温度

従来のマイクロ波反応装置では加熱できないとされている非極性溶媒も効率よく加熱ができます。

■運用上の注意事項

本装置は非常に強力な定在波（加熱エリア）形成を行なっているため、空状態での運転は、反応管の溶解など重大なトラブルの原因になります。マイクロ波照射の際は必ずサンプルを流した状態で操作してください。反応管表面温度、マイクロ波経路部品温度、マイクロ波反射量を常に注意してください。異常を発見した場合は、速やかに非常停止ボタンを押してください。

※　MR型を使用する際は総務省へ高周波利用設備許可申請書の提出が必要です。